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出版日期

2016年以前 (1)
作者

Edited by R. J. Carter 、C. S. Hau-Riege 、G. m. Kloster 、T. -M. Lu 、S. E. Schulz (1)
出版社/品牌

CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS (1)

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Materials, Technology and Reliability for Advanced Interconnects and Low-K Dielectrics ― 2004:VOLUME812
滿額折
作者:Edited by R. J. Carter ; C. S. Hau-Riege ; G. m. Kloster ; T. -M. Lu ; S. E. Schulz  出版社:CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS  出版日:2004/09/01 裝訂:平裝
In addition to selecting a low-k material and integrating it into a copper damascene process, the 60 papers address novel processing of low-k materials, employing pore sealing techniques and capping l
定價:1665 元, 優惠價:9 1499
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