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商品類型
原文書 （1）
商品狀況
可訂購商品 （1）
庫存狀況
無庫存 （1）
商品定價
$800以上 （1）
出版日期
2016年以前 （1）
作者
Edited by Suryadevara V. Babu 、Kenneth C. Cadien 、Hiroyuki Yano （1）
出版社/品牌
CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS （1）

三民網路書店 / 搜尋結果

共1筆商品，1/1頁
Chemical-Mechanical Polishing 2001 – Advances and Future Challenges：VOLUME671
90折
1.

Chemical-Mechanical Polishing 2001 – Advances and Future Challenges：VOLUME671

作者：Edited by Suryadevara V. Babu ; Kenneth C. Cadien ; Hiroyuki Yano  出版社：CAMBRIDGE UNIVERSITY PRESS  出版日：2001/12/14 裝訂：平裝
Papers from an April 2001 symposium describe recent advances in the practice of chemical-mechanical polishing (CMP) and in modeling the interactions that occur between the wafer surface and the pad an
無庫存，下單後進貨(到貨天數約30-45天)
定價：1665 元， 優惠價：9 1499
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