微納尺度製造工程(第三版)（簡體書）

坎貝爾的這本《微納尺度製造工程(第三版)》是《微電子製造科學原理與工程技術》的第三版。《微納尺度製造工程(第三版)》系統地介紹了微電子製造科學原理與工程技術，覆蓋了集成電路製造所涉及的所有基本單項工藝，包括光刻、等離子體和反應離子刻蝕、離子注入、擴散、氧化、蒸發、氣相外延生長、濺射和化學氣相淀積等。對每一種單項工藝，不僅介紹了它的物理和化學原理，還描述了用于集成電路製造的工藝設備。本書新增加的內容包括原子層淀積、電鍍銅、浸潤式光刻、納米壓印與軟光刻、薄膜器件、有機發光二極管以及應變技術在CMOS工藝中的應用等。
《微納尺度製造工程(第三版)》可作為高等學校微電子專業本科生和研究生相應課程的教科書或參考書，也可供與集成電路製造工藝技術有關的專業技術人員學習參考。

斯蒂芬A·坎貝爾：明尼蘇達大學電子與計算機工程系的教授，該校技術研究院的傑出教授，同時兼任該校納米製造中心和納米結構應用中心的主任。無論是在學術界還是在工業界，他在微電子工藝製造領域都有著廣泛的經驗。他目前的研究領域包括半導體納米顆粒在高性能電子器件與光電器件中的應用、先進材料、新型傳感器與晶體管結構以及MEMS器件的各類應用等。

第1篇 綜述與題材
第1章 微電子製造引論
1.1 微電子工藝：一個簡單的實例
1.2 單項工藝與工藝技術
1.3 本課程教程
1.4 小結
第2章 半導體襯底
2.1 相圖與固溶度°
2.2 結晶學與晶體結構°
2.3 晶體缺陷
2.4 直拉法（Czochralski法）單晶生長
2.5 Bridgman法生長GaAs
2.6 區熔法單晶生長
2.7 晶圓片制備和規格
2.8 小結與未來發展趨勢
習題
參考文獻
第2篇 單項工藝1：熱處理與離子注入
第3章 擴散
第4章 熱氧化
第5章 離子注入
第6章 快速熱處理
第3篇 單項工藝2：圖形轉移
第7章 光學光刻
第8章 光刻膠
第9章 非光學光刻技術+
第10章 真空科學與等離子體
第11章 刻蝕
第4篇 單項工藝3：薄膜及概述
第12章 物理淀積：蒸發和濺射
第13章 化學氣相淀積
第14章 外延生長
第5篇 工藝集成概述
第15章 器件隔離、接觸和金屬化
第16章 CMOS技術
第17章 其他類型晶體管的工藝技術
第18章 光電子器件工藝技術
第19章 微機電系統
第20章 集成電路製造
附錄A 縮寫與通用符號
附錄B 部分半導體材料的性質
附錄C 物理常數
附錄D 單位轉換因子
附錄E 誤差函數的一些性質
附錄F F數