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Rapid Thermal and Integrated Processing III：VOLUME342
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Proceedings of an MRS symposium held in San Francisco in April 1994. The volume is divided into ten sections: temperature measurement; rapid thermal CVD-I SiGe; novel applications of RTP; rapid thermal processing for metallization; dielectrics (two sections); RTCVD and integrated processing II integrated processing; rapid thermal annealing (two sections); and RTP modeling and equipment issues. Annotation copyright Book News, Inc. Portland, Or.
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