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商品簡介
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《CMOS的過去，現在和未來》提供了從基礎知識到CMOS處理和電特性表徵的最新見解，包括基於IV組半導體的光子學的集成。本書探討了在應變工程中在矽上使用異質外延技術以及矽平臺上光子學和高遷移率通道的集成所帶來的陷阱和機遇。它從基本定義和方程式開始，但一直延伸到當前的技術和挑戰，創建了關於技術的起源及其到現在的發展以及對未來趨勢的展望的路線圖。 該書探討了矽以外的材料所帶來的挑戰和機遇，包括對高k材料和金屬柵極，應變工程，溝道材料和遷移率以及接觸的仔細研究。本書的關鍵方法是表徵，器件處理和電氣測量。
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