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《極紫外光刻》是一本論述極紫外光刻技術的最新專著。本書全面而又精煉地介紹了極紫外光刻技術的各個方面及其發展歷程,內容不僅涵蓋極紫外光源、極紫外光刻曝光系統、極紫外掩模版、極紫外光刻膠、極紫外計算光刻等方面,而且還介紹了極紫外光刻生態系統的其他方面,如極紫外光刻工藝特點和工藝控制、極紫外光刻量測的特殊要求,以及對技術發展路徑有著重要影響的極紫外光刻的成本分析等內容。最後本書還討論了滿足未來的芯片工藝節點要求的極紫外光刻技術發展方向。
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