Processos microelectrónicos para o fabrico de VLSI

O livro "Micro-electronic Processes for VLSI Fabrication" ?um guia completo e autorizado que analisa os princ甑ios fundamentais e as t嶰nicas avan蓷das utilizadas no fabrico de circuitos integrados de muito grande escala (VLSI). Abrangendo um vasto leque de t鏕icos, o livro come蓷 com uma introdu誽o aprofundada ?tecnologia de semicondutores de sil獳io, incluindo uma panor滵ica dos materiais semicondutores, estrutura cristalina do sil獳io, semicondutores intr璯secos e extr璯secos e os meandros da dopagem e da concentra誽o de portadores. Os cap癃ulos subsequentes aprofundam aspectos cruciais do fabrico de VLSI, explorando t嶰nicas de processamento de bolachas, tais como crescimento, prepara誽o, inspe誽o de defeitos e v嫫ios m彋odos de limpeza de bolachas. O processo cr癃ico de oxida誽o ?abordado em pormenor, explicando as t嶰nicas de oxida誽o t廨mica, seca e hida, bem como os modelos de crescimento de 闛idos. O livro examina extensivamente os m彋odos de deposi誽o epitaxial, incluindo a deposi誽o qu璥ica de vapor (CVD), a epitaxia por feixe molecular (MBE) e a epitaxia selectiva. A implanta誽o e a difus緌 de i髊s, processos fundamentais para o fabrico de dispositivos semicondutores, s緌 tamb幦 meticulosamente discutidas, com informa踥es sobre os processos de implanta誽o de i髊s.