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半導體芯片和製造：理論和工藝實用指南（簡體書）
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商品簡介
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本書是一本實用而先進的關於半導體芯片理論、設計和製造的書籍。半導體製造工藝和所需設備的解釋是基於世界各地潔淨室中使用的設備進行的，以便讀者瞭解如何使用這些設備來實現他們的設計和製造目標。將理論與實踐相結合，所有描述都以高度可視化的文本形式圍繞實際設備和工藝展開，插圖包括設備圖片、製造工藝示意圖和半導體芯片結構圖。本書主要包括如下主題：基本概念，如等離子體機的阻抗失配和理論，以及能帶和Clausius-Clapeyron方程；半導體器件和製造設備的基本知識，包括直流和交流電路、電場、磁場、諧振腔以及器件和設備中使用的部件；晶體管和集成電路，包括雙極型晶體管、結型場效應晶體管和金屬-半導體場效應晶體管；芯片製造中使用的主要工藝，包括光刻、金屬化、反應離子刻蝕(RIE)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、熱氧化和注入等；工藝設計和解決問題的技巧，如如何設計幹法刻蝕配方，以及如何解決博世工藝中的問題。
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