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目次
商品簡介
《等離子體發射光譜分析(第2版)》系統地介紹了ICP光譜基本技術和知識（ICP光源特性、定性分析及定量分析方法、分析條件的選擇、干擾效應及其處理），ICP光譜分析領域的新儀器和新技術：固體檢測器光譜儀器和技術；軸向觀測ICP光源；各種類型樣品的進樣技術；有機溶劑和有機樣品的ICP分析方法；ICP光譜分析的樣品處理方法；基體效應的影響及抑制；ICP光譜儀器和技術的發展；全面介紹了各種新型ICP光譜儀器性能和特點。還以一定篇幅介紹了ICP光譜技術在各領域的實際應用：鋼鐵及其合金、有色金屬合金、環境樣品、地質礦物、無機非金屬材料、化學化工產品、食品和飲料、生物及生化樣品、核燃料及核材料等。
《等離子體發射光譜分析(第2版)》可作為光譜分析技術人員及高等學校分析化學專業的學生及研究生的學習參考用書，也可作為專業培訓班的教材。
《等離子體發射光譜分析(第2版)》可作為光譜分析技術人員及高等學校分析化學專業的學生及研究生的學習參考用書，也可作為專業培訓班的教材。
目次
第1章 概述
1.1 引言
1.2 原子發射光譜分析簡史
1.2.1 定性分析階段
1.2.2 定量分析階段
1.2.3 等離子體光譜技術時代
1.3 等離子體光譜簡介
1.3.1 直流等離子體光源的發展
1.3.2 微波等離子體光源的發展
1.3.3 電感耦合等離子體光源
參考文獻
第2章 ICP光源的物理化學特性
2.1 等離子體的基本概念
2.2 電感耦合等離子體的形成
2.2.1 ICP的形成條件及過程
2.2.2 工作氣體
2.3 ICP的物理特性
2.3.1 ICP的環形結構及趨膚效應
2.3.2 ICP溫度分布的不均勻性及其分區
2.3.3 等離子體的溫度及其測量
2.4 ICP光源的光譜特性
2.4.1 分析物的原子發射光譜
2.4.2 工作氣體的發射光譜
2.4.3 分子發射光譜
2.4.4 連續背景發射光譜
2.5 ICP光源的激發機理
2.5.1 Penning電離反應模型
2.5.2 電荷轉移反應模型
2.5.3 復合等離子體模型
2.5.4 雙極擴散模型
2.5.5 輻射俘獲模型
2.5.6 分析物的電離和激發過程
參考文獻
第3章 ICP光譜儀器
3.1 高頻發生器
3.1.1 高頻發生器的技術要求
3.1.2 自激振蕩器原理
3.1.3 自激式等離子體電源線路
3.1.4 他激振蕩器
3.1.5 高頻電流的傳輸
3.1.6 ICP光源中振蕩頻率的影響
3.2 ICP炬管
3.2.1 通用ICP炬管
3.2.2 炬管結構及等離子體的穩定性
3.2.3 低氣流炬管
3.2.4 微型炬管
3.2.5 水冷炬管
3.2.6 層流炬管
3.2.7 分子氣體的應用
3.2.8 炬管延伸管
3.3 進樣裝置
3.3.1 玻璃同心霧化器
3.3.2 交叉霧化器
3.3.3 Babington霧化器
3.3.4 超聲波霧化器
3.3.5 霧室
3.3.6 霧化器及進樣系統性能的診斷和評價
3.4 分光裝置
3.4.1 ICP光源對分光系統的要求
3.4.2 發射光譜儀常用的幾類光柵
3.4.3 光譜儀常用分光裝置
3.5 測光裝置
3.5.1 光電倍增管
3.5.2 信號處理單元
3.6 固態光電檢測器及其ICP光譜儀中的應用
3.6.1 ICP光譜儀中的電荷轉移器件
3.6.2 電荷轉移器件原理
3.6.3 電荷注入檢測器
3.6.4 電荷耦合檢測器
3.6.5 電荷轉移檢測器的特性
3.6.6 固態檢測器在ICP光譜儀中的應用
參考文獻
第4章 光譜分析原理
4.1 原子發射光譜的產生
4.1.1 光譜的產生
4.1.2 譜線的寬度及變寬
4.1.3 譜線的自吸
4.2 定量分析原理
4.2.1 譜線強度與濃度的關係
4.2.2 標準曲線法定量分析
4.2.3 標準曲線非線性問題
4.2.4 其他定量分析方法
4.2.5 定性和半定量分析
4.3 光譜分析條件
4.3.1 高頻功率的影響
4.3.2 工作氣體流量
4.3.3 觀測高度
4.3.4 其他分析參數
4.3.5 分析參數的優化
4.4 靈敏度、檢出限和精密度
4.4.1 分析靈敏度
4.4.2 檢出限
4.4.3 精密度
4.5 干擾效應
4.5.1 物理干擾
4.5.2 化學干擾
4.5.3 電離干擾
4.5.4 光譜干擾
4.6 基體效應
4.6.1 ICP光源的基體效應
4.6.2 基體效應的特點
4.6.3 重要基體效應及其處理方法
參考文獻
第5章 ICP光譜分析的應用
5.1 應用領域
5.2 建立ICP光譜分析法的程序
5.3 鋼鐵及其合金分析
5.3.1 碳鋼及低合金鋼
5.3.2 碳鋼及低合金鋼中微量元素的測定
5.3.3 高合金鋼
5.3.4 高純鐵分析
5.3.5 鑄鐵樣品
5.3.6 鐵合金分析
5.4 有色金屬及其合金
5.4.1 鋁及其合金分析
5.4.2 金屬鋯及其合金
5.4.3 銅及其合金
5.4.4 鉛及其合金
5.4.5 鎢和鉬及其合金
5.4.6 鈮和鉭
5.4.7 貴金屬
5.4.8 其他有色金屬和合金
5.5 水質樣品分析
5.5.1 水樣直接分析法
5.5.2 富集ICP光譜法
5.5.3 超聲霧化分析水樣
……
第6章 ICP光譜分析中的樣品處理
第7章 端視ICP光譜技術
第8章 專用進樣裝置與技術
第9章 有機化合物的ICP光譜分析
第10章 ICP光譜儀器發展與技術性能
第11章 電弧光源和火花光源分析
1.1 引言
1.2 原子發射光譜分析簡史
1.2.1 定性分析階段
1.2.2 定量分析階段
1.2.3 等離子體光譜技術時代
1.3 等離子體光譜簡介
1.3.1 直流等離子體光源的發展
1.3.2 微波等離子體光源的發展
1.3.3 電感耦合等離子體光源
參考文獻
第2章 ICP光源的物理化學特性
2.1 等離子體的基本概念
2.2 電感耦合等離子體的形成
2.2.1 ICP的形成條件及過程
2.2.2 工作氣體
2.3 ICP的物理特性
2.3.1 ICP的環形結構及趨膚效應
2.3.2 ICP溫度分布的不均勻性及其分區
2.3.3 等離子體的溫度及其測量
2.4 ICP光源的光譜特性
2.4.1 分析物的原子發射光譜
2.4.2 工作氣體的發射光譜
2.4.3 分子發射光譜
2.4.4 連續背景發射光譜
2.5 ICP光源的激發機理
2.5.1 Penning電離反應模型
2.5.2 電荷轉移反應模型
2.5.3 復合等離子體模型
2.5.4 雙極擴散模型
2.5.5 輻射俘獲模型
2.5.6 分析物的電離和激發過程
參考文獻
第3章 ICP光譜儀器
3.1 高頻發生器
3.1.1 高頻發生器的技術要求
3.1.2 自激振蕩器原理
3.1.3 自激式等離子體電源線路
3.1.4 他激振蕩器
3.1.5 高頻電流的傳輸
3.1.6 ICP光源中振蕩頻率的影響
3.2 ICP炬管
3.2.1 通用ICP炬管
3.2.2 炬管結構及等離子體的穩定性
3.2.3 低氣流炬管
3.2.4 微型炬管
3.2.5 水冷炬管
3.2.6 層流炬管
3.2.7 分子氣體的應用
3.2.8 炬管延伸管
3.3 進樣裝置
3.3.1 玻璃同心霧化器
3.3.2 交叉霧化器
3.3.3 Babington霧化器
3.3.4 超聲波霧化器
3.3.5 霧室
3.3.6 霧化器及進樣系統性能的診斷和評價
3.4 分光裝置
3.4.1 ICP光源對分光系統的要求
3.4.2 發射光譜儀常用的幾類光柵
3.4.3 光譜儀常用分光裝置
3.5 測光裝置
3.5.1 光電倍增管
3.5.2 信號處理單元
3.6 固態光電檢測器及其ICP光譜儀中的應用
3.6.1 ICP光譜儀中的電荷轉移器件
3.6.2 電荷轉移器件原理
3.6.3 電荷注入檢測器
3.6.4 電荷耦合檢測器
3.6.5 電荷轉移檢測器的特性
3.6.6 固態檢測器在ICP光譜儀中的應用
參考文獻
第4章 光譜分析原理
4.1 原子發射光譜的產生
4.1.1 光譜的產生
4.1.2 譜線的寬度及變寬
4.1.3 譜線的自吸
4.2 定量分析原理
4.2.1 譜線強度與濃度的關係
4.2.2 標準曲線法定量分析
4.2.3 標準曲線非線性問題
4.2.4 其他定量分析方法
4.2.5 定性和半定量分析
4.3 光譜分析條件
4.3.1 高頻功率的影響
4.3.2 工作氣體流量
4.3.3 觀測高度
4.3.4 其他分析參數
4.3.5 分析參數的優化
4.4 靈敏度、檢出限和精密度
4.4.1 分析靈敏度
4.4.2 檢出限
4.4.3 精密度
4.5 干擾效應
4.5.1 物理干擾
4.5.2 化學干擾
4.5.3 電離干擾
4.5.4 光譜干擾
4.6 基體效應
4.6.1 ICP光源的基體效應
4.6.2 基體效應的特點
4.6.3 重要基體效應及其處理方法
參考文獻
第5章 ICP光譜分析的應用
5.1 應用領域
5.2 建立ICP光譜分析法的程序
5.3 鋼鐵及其合金分析
5.3.1 碳鋼及低合金鋼
5.3.2 碳鋼及低合金鋼中微量元素的測定
5.3.3 高合金鋼
5.3.4 高純鐵分析
5.3.5 鑄鐵樣品
5.3.6 鐵合金分析
5.4 有色金屬及其合金
5.4.1 鋁及其合金分析
5.4.2 金屬鋯及其合金
5.4.3 銅及其合金
5.4.4 鉛及其合金
5.4.5 鎢和鉬及其合金
5.4.6 鈮和鉭
5.4.7 貴金屬
5.4.8 其他有色金屬和合金
5.5 水質樣品分析
5.5.1 水樣直接分析法
5.5.2 富集ICP光譜法
5.5.3 超聲霧化分析水樣
……
第6章 ICP光譜分析中的樣品處理
第7章 端視ICP光譜技術
第8章 專用進樣裝置與技術
第9章 有機化合物的ICP光譜分析
第10章 ICP光譜儀器發展與技術性能
第11章 電弧光源和火花光源分析
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