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超大型集成電路先進光刻理論與應用(簡體書)
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超大型集成電路先進光刻理論與應用(簡體書)

商品資訊

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商品簡介

商品簡介

光刻技術是所有微納器件製造的核心技術。在積體電路製造中,正是由於光刻技術的不斷提高才使得摩爾定律得以繼續。本書覆蓋現代光刻技術的重要方面,包括設備、材料、模擬(計算光刻)和工藝。在設備部分,對業界使用的主流設備進行剖析,介紹其原理結構、使用方法、和工藝參數的設置。在材料部分,介紹了包括光刻膠、抗反射塗層、抗水塗層、和使用旋圖工藝的硬掩膜等材料的分子結構、使用方法,以及必須達到的性能參數。本書按照模擬技術發展的順序,系統介紹基於經驗的光學鄰近效應修正、基於模型的光學鄰近效應修正、亞曝光解析度的輔助圖形、光源-掩模版共優化技術和反演光刻技術。如何控制套刻精度是光刻中公認的技術難點,本書有一章專門討論曝光對準系統和控制套刻精度的方法。另外,本書特別介紹新光刻工藝研究的方法論、光刻工程師的職責,以及如何協調各方資源保證研發進度。

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