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商品簡介
作者簡介
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商品簡介
本書是現代X射線光譜分析綜合性參考書。全書共分十七章，系統介紹X射線的物理基礎，基本性質，激發，色散，探測與測量，波長色散與能量色散光譜儀，基體效應，光譜背景和譜線重疊，樣品制備，定性與半定量分析，實驗校正法，數學校正法定量分析，薄膜和鍍層厚度分析，應用實例及分析誤差與不確定度等內容。附錄列舉了X射線熒光光譜分析常用的物理常數，相關數據等，供讀者參考使用。本書適用于冶金，地質，礦山，建材，檢驗檢疫，石油，化工，環境，農業，生物，食品，醫藥，文物及考古等部門從事X射線光譜分析的專業人員及相關工程技術人員參考，同時適用于高等院校相關專業師生，研究生及科研院所工程技術人員參考。
作者簡介
高新華，教授級高級工程師，長期從事X射線光譜學與光譜分析研究工作，儀器研制及培訓。科研方向：X射線熒光光譜分析涉及物理，化學，電子光學，X射線學，電子學，數學等專業。
名人/編輯推薦
本書是作者四十年從業經驗的積累和總結，內容考究，系統闡述X射線的物理基礎，波長色散與能量色散X射線光譜分析原理及儀器結構，定性與定量分析方法特點及應用等。
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