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產業專利分析報告(第84冊)：高端光刻機（簡體書）
商品資訊
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商品簡介
作者簡介
名人/編輯推薦
序
目次
商品簡介
本書是高端光刻機領域的專利分析報告，從該領域的發展概況、專利壁壘指數模型研究、競爭情報、主要技術分支專利等方面入手，充分結合相關數據展開分析，得出扎實的研究結論和相關建議。本書是企業了解高端光刻機領域技術發展現狀並預測未來走向，以及做好專利預警所需的必備工具書。
作者簡介
國家知識產權局學術委員會為國家知識產權局內設的專利審查業務學術研究機構，本年度8種分析報告的承辦方為優選的各地專利代理事務所、律師事務所以及相關行業協會。每種報告的課題組約由20人組成，分別進行數據收集、整理、分析、制圖、審核、統稿。
名人/編輯推薦
本書是高端光刻機領域的專利分析報告，從該領域的發展概況、專利壁壘指數模型研究、競爭情報、主要技術分支專利等方面入手，充分結合相關數據展開分析，得出扎實的研究結論和相關建議。
序
2021年是黨和國家歷史上具有裡程碑意義的一年，對知識產權領域來說同樣有著特殊的意義。中共中央、國務院相繼印發實施《知識產權強國建設綱要(2021—2035年)》和《“十四五”國家知識產權保護和運用規劃》，對知識產權事業未來發展作出重大頂層設計。國家“十四五”規劃綱要將每萬人口高價值發明專利擁有量寫入主要預期性指標，將知識產權工作擺在了更加突出的位置。立足新發展階段，國家知識產權局學術委員會堅持國家需求導向，緊緊圍繞重點產業發展和關鍵技術突破面臨的形勢要求，每年組織開展一批專利分析課題研究，出版一批優秀課題成果，不斷強化專利分析的研究深度和成果運用的實際效益，以期為提高我國關鍵核心領域自主知識產權的創造和儲備，以及新領域新業態的創新發展提供支撐和指引。
這一年，重點圍繞新一代信息技術、新型基礎設施建設、新材料、生物醫藥及醫療器械、高端裝備等5個產業領域選取了12個關鍵技術，組織了25家企事業單位近200名研究人員開展專利分析研究，圓滿完成了各項課題研究任務，形成了一批有廣度、有深度、有創新、有特色的研究成果。基於成果的推廣價值和示範效應，最終選取其中5項成果集結成冊，繼續以《產業專利分析報告》（第84～88冊）系列叢書的形式出版，所涉及的技術領域包括高端光刻機、動力電池檢測技術、熱交換介質、商業航天裝備製造和電動汽車續航技術等。
《產業專利分析報告》（第84～88冊）的順利出版凝聚了各方的智能和力量，各部門對重點研究方向的確定給予了鼎力支持，各省級、市級知識產權局、行業協會、科研院所等為課題順利開展給予了必要幫助，近百名行業和技術專家參與其中指導研究。希望讀者能充分吸收報告精華，在專利分析方法運用、專利創造和布局策略、技術發展趨勢研判、關鍵技術突破等方面有所啟發和借鑒。由於報告中專利文獻的數據采集範圍和專利分析工具的限制，加之研究人員水平有限，報告的數據、結論和建議僅供社會各界參考。
《產業專利分析報告》叢書編委會2022年6月
這一年，重點圍繞新一代信息技術、新型基礎設施建設、新材料、生物醫藥及醫療器械、高端裝備等5個產業領域選取了12個關鍵技術，組織了25家企事業單位近200名研究人員開展專利分析研究，圓滿完成了各項課題研究任務，形成了一批有廣度、有深度、有創新、有特色的研究成果。基於成果的推廣價值和示範效應，最終選取其中5項成果集結成冊，繼續以《產業專利分析報告》（第84～88冊）系列叢書的形式出版，所涉及的技術領域包括高端光刻機、動力電池檢測技術、熱交換介質、商業航天裝備製造和電動汽車續航技術等。
《產業專利分析報告》（第84～88冊）的順利出版凝聚了各方的智能和力量，各部門對重點研究方向的確定給予了鼎力支持，各省級、市級知識產權局、行業協會、科研院所等為課題順利開展給予了必要幫助，近百名行業和技術專家參與其中指導研究。希望讀者能充分吸收報告精華，在專利分析方法運用、專利創造和布局策略、技術發展趨勢研判、關鍵技術突破等方面有所啟發和借鑒。由於報告中專利文獻的數據采集範圍和專利分析工具的限制，加之研究人員水平有限，報告的數據、結論和建議僅供社會各界參考。
《產業專利分析報告》叢書編委會2022年6月
目次
第1章 概況
1.1研究背景
1.1.1技術發展概況
1.1.2產業現狀
1.1.3產業發展趨勢
1.2研究物件和方法
1.2.1研究物件
1.2.2研究方法
1.2.3相關事項和約定
第2章 專利壁壘指數模型研究
2.1研究意義
2.2研究物件
2.3研究優勢
2.4專利壁壘指數模型
2.4.1建立流程
2.4.2相關因素
第3章 高端光刻機全球競爭情報分析
3.1高端光刻機專利總體競爭態勢
3.1.1總體申請趨勢
3.1.2原創目標國家地區專利申請分布
3.1.3重要申請人分析
3.2全球科技文獻技術情報分析
3.3各領域申請趨勢及布局趨勢分析
3.3.1曝光系統
3.3.2工件臺及測量系統
3.3.3環境與真空
3.4ASML專利分析
3.4.1ASML成長經歷
3.4.2ASML專利申請與布局
3.4.3ASML科技文獻信息分析
3.5中國申請人專利分析
3.5.1專利申請趨勢分析
3.5.2申請人構成分析
3.5.3申請人的各技術分支申請分布
3.5.4重要申請人分析
3.6本章小結
第4章 EUV光源專利分析
4.1EUV光源技術介紹
4.2專利競爭態勢分析
4.2.1申請態勢
4.2.2專利區域分布
4.2.3重要申請人分析
4.3技術路線分析
4.3.1提高轉換效率
4.3.2減少污染
4.3.3提高穩定性
4.4重要專利技術介紹
4.5全球科技文獻情報分析
4.5.1EUV光源提高轉換效率
4.5.2防止EUV光源污染
4.5.3提高穩定性
4.5.4全球科技文獻情報分析小結
4.6技術發展趨勢預測
4.7專利壁壘研究
4.8技術未來發展預測與中國技術發展路線
4.8.1借鑒G公司準分子激光器技術可行性分析
4.8.2人才戰略資源導航
4.8.3專利可利用性淺析
4.9本章小結
第5章 投影物鏡專利分析
5.1投影物鏡技術介紹
5.2專利競爭態勢分析
5.2.1申請態勢
5.2.2專利區域分布
5.2.3主要申請人分析
5.3技術路線分析
5.3.1膜層設計
5.3.2多鏡投影物鏡系統整體設計
5.4重要專利技術介紹
5.5全球科技文獻情報分析
5.6技術發展趨勢預測
5.7投影物鏡專利壁壘研究
5.8反射鏡鍍膜專利技術的充分利用
5.9本章小結
第6章 主要結論和建議
6.1主要結論
6.2主要建議
附錄
附錄1申請人名稱約定表
附錄2EUV光刻機重要專利列表
附錄3可被借鑒的部分專利列表
圖索引
表索引
1.1研究背景
1.1.1技術發展概況
1.1.2產業現狀
1.1.3產業發展趨勢
1.2研究物件和方法
1.2.1研究物件
1.2.2研究方法
1.2.3相關事項和約定
第2章 專利壁壘指數模型研究
2.1研究意義
2.2研究物件
2.3研究優勢
2.4專利壁壘指數模型
2.4.1建立流程
2.4.2相關因素
第3章 高端光刻機全球競爭情報分析
3.1高端光刻機專利總體競爭態勢
3.1.1總體申請趨勢
3.1.2原創目標國家地區專利申請分布
3.1.3重要申請人分析
3.2全球科技文獻技術情報分析
3.3各領域申請趨勢及布局趨勢分析
3.3.1曝光系統
3.3.2工件臺及測量系統
3.3.3環境與真空
3.4ASML專利分析
3.4.1ASML成長經歷
3.4.2ASML專利申請與布局
3.4.3ASML科技文獻信息分析
3.5中國申請人專利分析
3.5.1專利申請趨勢分析
3.5.2申請人構成分析
3.5.3申請人的各技術分支申請分布
3.5.4重要申請人分析
3.6本章小結
第4章 EUV光源專利分析
4.1EUV光源技術介紹
4.2專利競爭態勢分析
4.2.1申請態勢
4.2.2專利區域分布
4.2.3重要申請人分析
4.3技術路線分析
4.3.1提高轉換效率
4.3.2減少污染
4.3.3提高穩定性
4.4重要專利技術介紹
4.5全球科技文獻情報分析
4.5.1EUV光源提高轉換效率
4.5.2防止EUV光源污染
4.5.3提高穩定性
4.5.4全球科技文獻情報分析小結
4.6技術發展趨勢預測
4.7專利壁壘研究
4.8技術未來發展預測與中國技術發展路線
4.8.1借鑒G公司準分子激光器技術可行性分析
4.8.2人才戰略資源導航
4.8.3專利可利用性淺析
4.9本章小結
第5章 投影物鏡專利分析
5.1投影物鏡技術介紹
5.2專利競爭態勢分析
5.2.1申請態勢
5.2.2專利區域分布
5.2.3主要申請人分析
5.3技術路線分析
5.3.1膜層設計
5.3.2多鏡投影物鏡系統整體設計
5.4重要專利技術介紹
5.5全球科技文獻情報分析
5.6技術發展趨勢預測
5.7投影物鏡專利壁壘研究
5.8反射鏡鍍膜專利技術的充分利用
5.9本章小結
第6章 主要結論和建議
6.1主要結論
6.2主要建議
附錄
附錄1申請人名稱約定表
附錄2EUV光刻機重要專利列表
附錄3可被借鑒的部分專利列表
圖索引
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