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商品簡介
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催化化學氣相沉積(Cat-CVD)又名熱絲化學氣相沉積，可以在襯底溫度低於300℃條件下獲得器件級的高質量薄膜。本書系統介紹了Cat-CVD技術，包括其基本原理、設備設計及應用。具體包括Cat-CVD的物理基礎及其與等離子增強化學氣相沉積的區別、Cat-CVD 中化學反應的分析方法及基本原理、Cat-CVD 的物理化學基礎、Cat-CVD製備的無機薄膜性能、引發化學氣相沉積(iCVD)合成有機聚合物、Cat-CVD設備運行中的物理基礎與技術、Cat-CVD 在太陽電池和各種半導體器件中的應用、Cat-CVD系統中的活性基團及其應用，最後介紹了利用Cat-CVD 腔室中產生的活性基團，在低溫下進行半導體摻雜。本書可供薄膜製備相關研發和技術人員參考使用，主要涉及半導體及薄膜太陽電池等領域。
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