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半導體薄膜技術與物理(第三版)(簡體書)
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半導體薄膜技術與物理(第三版)(簡體書)

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商品簡介

商品簡介

本書介紹了半導體薄膜的各種製備技術及其相關的物理基礎,全書共分十一章。第一章概述了真空技術,第二至第八章分別介紹了蒸鍍、濺射、化學氣相沉積、脈衝激光沉積、分子束外延、液相外延、濕化學合成等各種半導體薄膜的沉積技術,第九章介紹了半導體超晶格、量子阱的基本概念和理論,第十章介紹了典型薄膜半導體器件的製備技術,第十一章介紹了溶液法技術及發光器件的製備。

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